低温磁控溅射SnO2:Sb透明导电膜的结构与导电性能

• 作者: 刘晓梅 张士勇 郝晓涛 马洪磊 马瑾
• 来源期刊: 太阳能学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 SnO2:Sb薄膜 结构和电学性质
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 页码范围: 148-151
• 页数: 4页
• 分类号: TK51
• 字数: 2447字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0254-0096.2004.02.005

摘要

采用射频磁控溅射法在7059玻璃衬底上低温制备出锑掺杂的氧化锡(SnO2:Sb)透明导电膜,对薄膜的结构和电学性质进行了研究.制备薄膜为多晶膜,并且保持了纯二氧化锡的金红石结构,而且具有明显的(110)择优取向.最低电阻率为2×10-3Ω·cm,载流子浓度和迁移率分别为1.65×1020cm-3和19.0cm2·v-1·s-1.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马瑾	山东大学物理与微电子学院光电材料与器件研究所	44	495	13.0	20.0
2	马洪磊	山东大学物理与微电子学院光电材料与器件研究所	58	681	15.0	23.0
3	刘晓梅	山东大学计算机学院	9	128	5.0	9.0
4	郝晓涛	山东大学物理与微电子学院光电材料与器件研究所	12	158	7.0	12.0