化学镀镍工艺条件对陶瓷热敏电阻性能的影响

• 作者: 周欣山 张甦 沈十林 钱朝勇
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 化学
• 关键词: 化学镀镍 陶瓷热敏电阻 粗化
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 研究·工艺
• 页码范围: 28-30
• 页数: 3页
• 分类号: TQ153.3|O646.54|TM28
• 字数: 2486字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-227X.2004.01.009

摘要

化学粗化能使晶界剥蚀晶粒裸露,当化学粗化时间超过5 min可以明显提高瓷片焊接强度.化学镀镍溶液pH值升高,镀层磷含量降低,同时可能生成Ni(OH)2沉淀夹杂在镀层中,从而使电阻升高; 磷含量升高,热敏电阻耐电压强度下降; 因此镀镍液pH值应控制在4.0～5.0.热处理温度在250 ℃即可将扩散到陶瓷的初生态氢原子去除,热处理温度过高或热处理时间过长使镍明显氧化从而破坏了瓷片的欧姆接触.电阻-温度特性曲线测定结果显示,经热处理的热敏电阻的R-T曲线与银锌电极的R-T曲线相似.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张甦		1	7	1.0	1.0
2	沈十林		1	7	1.0	1.0
3	周欣山		1	7	1.0	1.0
4	钱朝勇		1	7	1.0	1.0