准分子激光刻蚀光纤布拉格光栅

• 作者: 张玉亮 朱志强 邓国庆
• 来源期刊: 光电子技术与信息
• 学科: 工学
• 关键词: 准分子激光 光刻 光纤布拉格光栅
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 15-17
• 页数: 3页
• 分类号: TN249
• 字数: 1961字
• 语种: 中文

摘要

准分子激光光刻是21世纪提高超大规模集成电路(VLSI)集成度的一项关键技术,而近年来基于准分子紫外光源制作光纤布拉格光栅元件(FBG)的技术日益成为国内外的研究热点.本文简述了准分子激光光刻的研究现状和光纤布拉格光栅的应用,详细介绍了利用紫外激光制作FBG的技术和相应准分子激光光源关键技术的发展.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邓国庆	中国科学院安徽光学精密机械研究所	24	100	5.0	9.0
2	朱志强	中国科学院安徽光学精密机械研究所	49	238	8.0	13.0
3	张玉亮	中国科学院安徽光学精密机械研究所	14	62	4.0	7.0