空心阴极离子镀(Ti,Zr)N膜层制备及应用研究

• 作者: 刘谦 肖宏清
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 空心阴极离子镀(HCD) (Ti,Zr)N 印制板
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 工艺研究
• 页码范围: 57-59
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.44
• 字数: 3435字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2004.06.022

摘要

用空心阴极离子镀(HCD)技术制备了(Ti,Zr)N膜层,研究了氮分压对膜层硬度的影响.以结合强度为判据,采用基体温度、轰击气压、负偏压及中间层沉积时间作为试验的变化因素,用正交试验法优化了制备(Ti,Zr)N膜层的最佳工艺规范.应用优化的工艺参数对印制板(PCB)刀具进行了镀膜强化应用,结果表明,镀层性能良好,能够延长刀具的使用寿命.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘谦	装甲兵工程学院材料科学与工程系	52	531	14.0	21.0