ZnO薄膜的分子束外延生长及性能

• 作者: 俞根才 吴志浩 周映雪 张新夷
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧化锌 分子束外延 X射线衍射 纳米晶 发光
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 287-290
• 页数: 4页
• 分类号: O472.3
• 字数: 1858字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2004.03.013

摘要

利用分子束外延(MBE)和氧等离子体源辅助MBE方法分别在Si(100)、GaAs(100)和蓝宝石Al2O3(0001)衬底上用Zn、ZnS或以一定Zn-O化学计量比作缓冲层,改变衬底生长温度和氧压,并在氧气氛下,进行原位退火处理,得到ZnO薄膜.依据X射线衍射(XRD)图,表明样品的结晶性能尚好,且呈c轴择优取向;实验结果表明在不同衬底上生长的ZnO薄膜,由于晶格失配度不同,其衍射峰也有区别.用原子力显微镜(AFM)观测薄膜的表面形貌,为晶粒尺寸约几十纳米的ZnO纳米晶,且ZnO晶粒呈六边形柱状垂直于衬底的表面.采用掠入射X射线反射率法测膜厚.在360nm激发下,样品的发光光谱是峰值为410,510nm的双峰谱,是与样品表面氧缺陷有关的深能级发光.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴志浩	复旦大学同步辐射研究中心	2	22	2.0	2.0