Bi3.25La0.75Ti3O12薄膜的化学溶液淀积方法制备及表征

• 作者: 林殷茵 汤庭鳌 王晓光
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 铁电薄膜 化学溶液淀积 疲劳
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 专题报道(半导体材料与设备)
• 页码范围: 49-53
• 页数: 5页
• 分类号: TN386
• 字数: 3704字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2004.03.014

摘要

采用新颖的化学溶液淀积方法,配制出可长时间稳定的先体溶液,采用红外分析和热分析等手段,对成膜过程中发生的反应变化进行了分析,结果表明采用新的方法可以增加先体的稳定性,并且确定了薄膜的析晶温度.XRD测试表明薄膜在不到500℃即开始析晶,并且析晶情况与Bi含量有关.对薄膜的电学性能研究表明随着Bi含量的增加,薄膜的漏电性能和抗疲劳特性变差,矫顽场变大,而2Pr在Bi过量10%的情况下达到最大31.6 μ C/cm2.