流动注射抑制化学发光法测定痕量强力霉素

• 作者: 李念兵 段建平 陈国南 陈红青
• 来源期刊: 光谱学与光谱分析
• 学科: 化学
• 关键词: 强力霉素 流动注射 抑制化学发光
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 页码范围: 15-17
• 页数: 3页
• 分类号: O657.3
• 字数: 1780字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-0593.2004.01.005

摘要

基于在NaOH介质中, 强力霉素对Luminol-KMnO4体系发光反应具有强烈的抑制作用, 建立起流动注射抑制化学发光测定痕量强力霉素的新方法. 强力霉素在0.005～5.0 μg· mL-1浓度范围内, 采用不同的KMnO4溶液浓度, 分段建立起抑制化学发光强度与其浓度间良好的线性关系, 方法的检出限为2.0×10-3μg·mL-1. 该方法可用于药片中强力霉素含量的测定.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈国南	福州大学化学化工学院	164	1018	17.0	21.0
2	段建平	福州大学分析测试中心	28	189	8.0	13.0
3	陈红青	福州大学分析测试中心	22	208	8.0	14.0
4	李念兵	福州大学化学化工学院	2	26	1.0	2.0