内磁屏蔽表层黑化膜劣化原因分析与工艺处理

• 作者: 何江龙 李渭 王建平 边辉
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 清洗 黑化膜 内磁屏蔽 劣化
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 经验交流
• 页码范围: 73-75
• 页数: 3页
• 分类号: TN141.3+2
• 字数: 2868字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2004.01.021

摘要

针对彩管用内磁屏蔽在黑化处理过程中出现的黑化膜劣化现象,通过分析与试验明确了其产生的原因并采取了有效的对策.着重述叙了清洗质量对黑化膜质量的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王建平		12	2	1.0	1.0
2	边辉		9	0	0.0	0.0
3	何江龙		2	0	0.0	0.0
4	李渭		1	0	0.0	0.0