硅基光致发光膜:(Zn2SiO4/Si):Tb/Mn的制备

• 作者: 刘坤 季振国 宋永梁 杨永德 赵士超
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 硅酸锌 固相反应 硅基光电薄膜
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 238-240
• 页数: 3页
• 分类号: O484.1|O484.41|O484.5
• 字数: 1662字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2004.03.020

摘要

利用溶胶-凝胶涂膜技术及高温固相反应技术,在硅片表面生长了掺铽和锰的两种高效硅基光致发光膜.XRD和吸收光谱分析测试结果表明,当固相反应温度高于850℃时,在硅片表面形成了晶态的Zn2SiO4薄膜.荧光光谱实验结果表明这种利用高温固相反应生成的掺铽或掺锰的Zn2SiO4薄膜的发光强度高,余辉为10ms数量级.本方法制备的硅基发光膜热稳定性及化学稳定性好,有希望与硅集成电路工艺兼容.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	季振国	浙江大学硅材料国家重点实验室	48	467	12.0	19.0
2	刘坤	浙江大学硅材料国家重点实验室	12	201	6.0	12.0
3	杨永德		13	48	4.0	6.0
4	宋永梁	浙江大学硅材料国家重点实验室	6	138	5.0	6.0
5	赵士超	浙江大学硅材料国家重点实验室	1	5	1.0	1.0