ITO纳米粉制备及表面修饰研究

• 作者: 吕军华 周洪庆 沈晓冬 王庭慰 蔡永明 黄杏芳
• 来源期刊: 南京工业大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: ITO 纳米粉 共沉淀法 表面修饰
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 页码范围: 27-30
• 页数: 4页
• 分类号: TQ426.94
• 字数: 2932字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-7627.2004.04.007

摘要

以InCl3·4H2O和SnCl4·5H2O为原料,采用共沉淀法制备ITO纳米粉,并对其进行表面修饰.辅助TG-DSC、FT-IR、XRD、SEM、EDS和TEM等测试方法,研究确定了适宜的制备和表面修饰工艺条件.结果表明:所制ITO纳米粉具有立方晶系结构、颗粒均匀、分散性良好、与基体相容、平均粒径为20nm左右.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈晓冬	南京工业大学材料科学与工程学院	217	2258	22.0	34.0
2	蔡永明	南京工业大学材料科学与工程学院	8	94	5.0	8.0
3	黄杏芳	南京工业大学材料科学与工程学院	4	59	4.0	4.0
4	周洪庆	南京工业大学材料科学与工程学院	94	730	13.0	19.0
5	王庭慰	南京工业大学材料科学与工程学院	107	854	16.0	23.0
6	吕军华	沈阳化工学院材料科学与工程学院	3	37	3.0	3.0