Ni-α-Al2O3纳米复合电镀最佳工艺条件的确定

• 作者: 于杰 刘建平 彭元芳 曾振欧 赵国鹏
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 镍基纳米 复合电镀 工艺条件 复合镀层 微观形貌
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 工艺研究
• 页码范围: 53-55
• 页数: 3页
• 分类号: TQ153.2|TG178
• 字数: 2160字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2004.01.020

摘要

以镀层中分散相的含量作为评价标准,通过正交试验确定出了Ni-α-Al2O3纳米复合电镀的最佳工艺条件.讨论了各因素影响镀层中纳米粉体含量的规律,采用扫描电镜对镀层的微观形貌进行了观察,并对在最佳工艺条件下制得的纳米复合镀层的硬度与同操作条件下制得的基础镍镀层进行了比较.结果表明:对镀层中纳米粉体的含量影响较大的因素为镀液中分散相浓度和通气搅拌强度,但对镀层的微观形貌影响较大的因素为电流密度;纳米复合镀层的显微硬度明显高于基础镍镀层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵国鹏		60	800	16.0	24.0
2	刘建平		19	408	10.0	19.0
3	曾振欧	华南理工大学应用化学系	68	799	17.0	24.0
4	彭元芳		7	87	4.0	7.0
5	于杰	华南理工大学应用化学系	8	134	5.0	8.0