恒流电晕充电对聚四氟乙烯多孔薄膜驻极体驻极态的影响

• 作者: 吴越华 夏钟福 安振连 王飞鹏 邱勋林
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 恒流电晕充电 聚四氟乙烯多孔膜 驻极体 电荷稳定性
• 年，卷（期）: 2004,（9）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 3146-3151
• 页数: 6页
• 分类号: O4
• 字数: 4709字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2004.09.060

摘要

利用常温下恒流和恒压电晕充电、充电后的等温表面电位衰减、热刺激放电和扫描电镜等实验手段研究了恒流和恒压电晕充电技术对聚四氟乙烯多孔薄膜驻极体驻极态的影响.与恒压电晕充电相比较,恒流电晕充电时由于流过薄膜的电流恒定,增加了注入电荷在多孔结构厚度方向界面处的俘获概率,使沉积电荷密度上升,改善了驻极体的储电能力.然而,这些位于不同层深多孔界面处的俘获电荷在这类功能膜储存或使用过程中,经外激发从脱阱位置以跳动( hopping)模式输运至背电极的路径相对缩短将导致脱阱电荷衰减较快.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	夏钟福	同济大学波尔固体物理研究所	79	508	12.0	19.0
2	邱勋林	同济大学波尔固体物理研究所	23	139	6.0	10.0
3	王飞鹏	同济大学波尔固体物理研究所	24	75	5.0	6.0
4	吴越华	同济大学波尔固体物理研究所	10	43	4.0	6.0
5	安振连	同济大学波尔固体物理研究所	32	170	7.0	11.0