厚靶轫致辐射特性的数值模拟研究

• 作者: 林郁正 石金水 禹海军 龙继东
• 来源期刊: 高能物理与核物理
• 关键词: 电子束 轫致辐射 厚靶 能谱 发射度
• 年，卷（期）: 2004,（11）
• 所属期刊栏目: 同步辐射,自由电子激光,核技术应用等
• 页码范围: 1238-1243
• 页数: 6页
• 字数: 5301字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0254-3052.2004.11.023

摘要

X光机正朝高能强流方向发展.这些装置中普遍采用mm厚度的重金属厚靶,其辐射特性和各种参数间的规律受到关注.本文采用基于蒙特卡罗法的EGS4程序比较全面的研究了高能X光机中所关心的靶厚度的选择、轫致辐射场的角分布和X射线能谱的规律.同时还专门就X光强度和束流发射度、打靶焦斑尺寸三者的依赖关系进行分析,结论表明针对现有的X光机参数,不用担心因追求小焦斑而带来X光照射量的损失.文中还分析了强束流条件下单粒子蒙特卡罗模拟程序的适用性.文中结论和已有实验结果吻合,对实际工作具有意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	石金水		68	304	10.0	13.0
2	禹海军		33	69	5.0	6.0
3	林郁正	清华大学工程物理系	53	252	9.0	12.0
4	龙继东	清华大学工程物理系	3	15	2.0	3.0