直拉硅片中间隙氧和硼对太阳电池光衰减影响的研究

• 作者: 任丙彦 励旭东 左燕 王文静 许颖 霍秀敏
• 来源期刊: 太阳能学报
• 学科: 工学
• 关键词: 间隙氧 掺杂 光衰减 太阳电池
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 页码范围: 629-632
• 页数: 4页
• 分类号: TK514
• 字数: 2031字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0254-0096.2004.05.012

摘要

为研究间隙氧和硼对于硅片少子寿命和光衰减的影响,实验中采用不同氧碳含量、不同掺杂浓度的p型(100)的直拉硅(Cz-Si)片制作太阳电池,设计了不同温度、气氛的热处理工艺.发现:太阳能级直拉单晶硅片中间隙氧含量和硼的掺杂浓度的不同对于硅片少子寿命的影响有一定的规律;硅片少子寿命值在650℃热处理时有轻微下降,而在后续650℃和950℃的热处理中有着显著的提高.当电阻率一定时,低氧的样片有利于少子寿命的提高;而在氧含量相同的情况下,掺杂硼的浓度越低,对于少子寿命的提高越有利.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	任丙彦		31	241	9.0	14.0
2	许颖		39	349	12.0	17.0
3	王文静		35	350	10.0	18.0
4	励旭东		15	191	8.0	13.0
5	霍秀敏		3	14	2.0	3.0
6	左燕		5	67	4.0	5.0