a-SiCx:H/nc-Si:H多层薄膜的室温时间分辨光致可见发光

• 作者: 吴明姆 王莉 赵福利 赵艳娥 陈弟虎
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: a-SiCx:H/Si:H多层薄膜 等离子体增强化学气相沉积 热退火
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 696-700
• 页数: 5页
• 分类号: O473|O482.31
• 字数: 2880字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2004.06.016

摘要

在等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统中,通过控制进入反应室的气体种类逐层沉积非晶SiCx:H(a-SiCx:H)和非晶Si:H(a-Si:H)薄膜,然后经过高温热退火处理,成功制备了晶化纳米a-SiCx:H/nc-Si:H(多晶SiC和纳米Si)多层薄膜.利用截面透射电子显微镜技术分析了a-SiCx:H/nc-Si:H多层薄膜的结构特性.通过对晶化样品的时间分辨光致发光谱的研究,结果表明:随着退火温度的升高,发光峰位置开始出现一些红移现象;当退火温度为900℃时,样品的发光强度和发光衰减时间分别达到最大值和最小值;随着退火温度的继续升高,发光峰位置又开始出现蓝移现象.由此探讨纳米a-SiCx:H/nc-Si:H多层薄膜的发光特性和发光机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴明姆	中山大学化学与化工学院	1	5	1.0	1.0