等离子体技术在碳氮膜制备中的应用

• 作者: 俞世吉 刘艳红 李建 马腾才
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 碳氮膜 等离子体 薄膜β-C3N4
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 8-13
• 页数: 6页
• 分类号: O539|TB43
• 字数: 3901字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2004.02.002

摘要

β-C3N4是Cohen等人从理论上预言的一种可能比金刚石更硬的物质,含有β-C3N4的碳氮膜具有优异的电学、光学和机械特性,在很多领域有应用前景.人们已经应用多种方法进行碳氮膜的制备.本文将对等离子体技术在碳氮膜制备中的应用进行综述,并在成膜速率、成膜质量等方面,对以往工作成果进行论述;最后将讨论沉积过程中几个参量对碳氮膜沉积速率、膜结构等的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马腾才	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	81	688	15.0	21.0
2	俞世吉	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	6	20	3.0	4.0
3	刘艳红	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	14	73	6.0	8.0
4	李建	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	8	32	4.0	5.0