辉光放电质谱法测定高纯锑中的痕量杂质元素

• 作者: 姬荣斌 普朝光 荣百炼 鲁燕杰
• 来源期刊: 质谱学报
• 学科: 化学
• 关键词: 质谱学 痕量杂质测定 辉光放电质谱法(GDMS) 高纯锑
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 研究简报
• 页码范围: 96-99
• 页数: 4页
• 分类号: O657.63|O612.5
• 字数: 2441字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-2997.2004.02.008

摘要

采用辉光放电质谱法(GDMS)对高纯半导体材料锑中的Mg、Si、S、Mn等14种痕量杂质元素进行测量.对仪器工作参数进行了优化选择,并对杂质浓度与溅射时间的关系、质谱干扰对测量的影响及测量的准确性和重现性进行了探讨.实验表明:样品经足够长时间的溅射,可以消除样品制备和处理过程中的表面污染,可以为其它高纯材料的检测提供可靠的科学依据.辉光放电质谱法是检定高纯半导体材料的理想工具.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	普朝光		10	87	7.0	9.0
2	姬荣斌		50	200	7.0	10.0
3	荣百炼		7	43	3.0	6.0