常温生长类金刚石薄膜的实验研究

• 作者: 刘铁林 巴德纯 程翔 蔺增
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 类金刚石膜 常温生长 等离子体增强化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 84-87
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2000字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-0322.2004.04.020

摘要

利用射频等离子体增强化学气相沉积(RFPECVD)工艺在常温下实现在不锈钢、硅片、玻璃等基底上大面积沉积类金刚石(DLC)膜.薄膜表面光滑致密,与衬底的结合力较高.用Raman,FTIR,SEM,EDX研究了薄膜的形貌、结构与组分.用栓-盘摩擦磨损试验机测试了薄膜的摩擦系数.通过优化沉积参数,所沉积的DLC膜在与100Cr6钢球对磨时摩擦系数低于0.01.在摩擦过程中DLC膜的磨损机制借助SEM进行了研究.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巴德纯		250	1491	18.0	22.0
2	蔺增		40	160	7.0	9.0
3	程翔	厦门大学物理系	23	63	5.0	6.0
4	刘铁林		1	5	1.0	1.0