多孔硅衬底微波CVD金刚石薄膜的制备及其场电子发射

• 作者: 宋雪梅 蔡让岐 贺德衍 陈光华
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 多孔硅 金刚石薄膜 场电子发射
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 288-291
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 1740字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2004.03.010

摘要

研究了多孔硅衬底微波CVD金刚石薄膜的制备工艺及其场电子发射特性.以多孔硅作为生长金刚石突起阵列的模板,生长出带多微尖的微晶金刚石晶粒,使场电子发射阈值下降(＜1V/μm),发射电流增大(＞90mA/cm2),场发射性能稳定,并对这种场发射特性做出了理论解释.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	贺德衍	兰州大学物理科学与技术学院	68	559	13.0	19.0
2	陈光华	北京工业大学新型功能材料教育部重点实验室	5	73	5.0	5.0
6	蔡让岐	兰州大学物理科学与技术学院	3	25	2.0	3.0
7	宋雪梅	北京工业大学新型功能材料教育部重点实验室	44	498	11.0	21.0