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反应条件对氮(碳/氧)化硅薄膜性能的影响
反应条件对氮(碳/氧)化硅薄膜性能的影响
作者:
储昭荣
吉小利
徐国财
李芬
王君
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
氮(碳/氧)化硅
反应条件
薄膜
摘要:
就氮(碳/氧)化硅薄膜的反应条件-组成和结构-性能之间关系的国内外研究进行了综述.
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文献信息
篇名
反应条件对氮(碳/氧)化硅薄膜性能的影响
来源期刊
化学与生物工程
学科
工学
关键词
氮(碳/氧)化硅
反应条件
薄膜
年,卷(期)
2004,(1)
所属期刊栏目
科学研究
研究方向
页码范围
20-22
页数
3页
分类号
TQ174.758|O484.4
字数
3665字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1672-5425.2004.01.007
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
李芬
安徽理工大学化工系
11
94
4.0
9.0
2
徐国财
安徽理工大学化工系
124
1239
19.0
30.0
3
王君
安徽理工大学化工系
61
695
15.0
24.0
4
吉小利
安徽理工大学化工系
39
430
11.0
20.0
5
储昭荣
安徽理工大学化工系
5
69
4.0
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1963(1)
参考文献(0)
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1965(1)
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2004(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
氮(碳/氧)化硅
反应条件
薄膜
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
化学与生物工程
主办单位:
武汉工程大学
湖北省化学化工学会
湖北省化学研究院
湖北省化学工业研究设计院
出版周期:
月刊
ISSN:
1672-5425
CN:
42-1710/TQ
开本:
大16开
出版地:
武汉市关山大道330号武汉工程大学研究设计院内
邮发代号:
38-356
创刊时间:
1984
语种:
chi
出版文献量(篇)
5031
总下载数(次)
11
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