退火效应对MOCVD生长的ZnO薄膜的影响

• 作者: 姚书山 尉吉勇 张琦 朱宝富 李先林 秦晓燕 黄柏标
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: MOCVD 退火 ZnO薄膜 X射线衍射 光致发光谱
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 页码范围: 755-757
• 页数: 3页
• 分类号: TN304.21
• 字数: 1336字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2004.05.013

摘要

我们利用MOCVD设备在α-Al2O3衬底上生长了c轴取向的ZnO薄膜,通过X射线衍射(XRD)、光致发光谱(PL)对ZnO薄膜进行表征,研究了退火对ZnO薄膜光电特性影响.通过退火优化, ZnO薄膜的结晶性得到提高,晶粒尺寸变大,紫外光发射峰的强度相对变强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张琦	山东大学晶体材料国家重点实验室	43	170	8.0	10.0
2	黄柏标	山东大学晶体材料国家重点实验室	47	364	10.0	17.0
3	秦晓燕	山东大学晶体材料国家重点实验室	16	34	3.0	5.0
4	姚书山	山东大学晶体材料国家重点实验室	5	226	3.0	5.0
5	尉吉勇	山东大学晶体材料国家重点实验室	10	29	4.0	5.0
6	朱宝富	山东大学晶体材料国家重点实验室	2	1	1.0	1.0
7	李先林	山东大学晶体材料国家重点实验室	1	1	1.0	1.0