石英衬底上的BPxN1-x薄膜沉积及P对其光学带隙调制的研究

• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: BPXN1-X薄膜 磷掺杂 光学带隙
• 年，卷（期）: 2004,（z2）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 24-27
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.2+3
• 字数: 2582字
• 语种: 中文

摘要

以光学石英为衬底,采用热丝辅助射频等离子体增强化学气相沉积方法(HF-PECVD)沉积了BPXN1-X薄膜.通过X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱(EDAX)、紫外-可见(UV-VIS)等测试手段研究了薄膜的化学组成、结晶状况,以及P元素掺杂对BPXN1-X薄膜材料光学带隙的调制规律.结果表明,所沉积薄膜具有多晶团聚、定向生长的特点,其表面形貌随时间而变化,最后发展成多晶球状密堆成膜,与石英衬底结合牢固.BPXN1-X薄膜的磷元素相对含量随磷烷流量增加而增加,光学带隙相应窄化.通过控制磷的掺杂量可以有效调整该薄膜材料的光学带隙.