噻吩衍生物修饰脱硫性质的理论研究

• 作者: 刘晨光 吕仁庆 谷军
• 来源期刊: 石油与天然气化工
• 学科: 工学
• 关键词: 脱硫 修饰 密度泛函理论 基组
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 油气处理与加工
• 页码范围: 172-173,196
• 页数: 3页
• 分类号: TE6
• 字数: 1885字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-3426.2004.03.009

摘要

采用Gassian98软件包,利用密度泛函理论(DFT)中的杂化密度泛函B3LYP方法,对H原子采用3-21G基组,其它原子采用6-31G+(d)基组,对噻吩衍生物的结构进行了优化,研究结果表明,取代基既有电子效应,又有空间效应,对噻吩衍生物与脱硫催化剂的作用可能产生很大影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘晨光	石油大学(华东)化学化工学院应用化学系	29	532	14.0	22.0
2	吕仁庆	石油大学(华东)化学化工学院应用化学系	8	121	6.0	8.0
3	谷军	石油大学(华东)化学化工学院应用化学系	5	9	2.0	2.0