低翘曲度ITO透明导电膜玻璃的工艺研究

• 作者: 闫金良
• 来源期刊: 半导体光电
• 学科: 工学
• 关键词: ITO薄膜 薄基片 压应力 翘曲度
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 材料、结构及工艺
• 页码范围: 384-387
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.2
• 字数: 2921字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5868.2004.05.015

摘要

研究了不同厚度ITO膜的大尺寸超薄导电玻璃的翘曲度,ITO膜形成期间基片温度对ITO膜层晶体化程度的影响及不同基片温度下形成的ITO膜层在不同的退火条件下的退火前、后的电阻率和膜压应力.实验发现,ITO膜层的很高的压应力是导致导电膜玻璃翘曲的直接原因;采用室温沉积非晶ITO膜,然后经高温热退火可获得低膜压应力多晶相ITO膜.基于实验结论,提出了一种适合批量生产的低翘曲度ITO膜导电玻璃的制备工艺.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	闫金良	烟台师范学院物理系	17	39	4.0	5.0