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摘要:
研究了辐射后CMOS器件的等温、等时退火特性,给出了nMOSFET和pMOSFET器件不同条件下的对比结果.研究表明:100℃等温退火是最有效的,等时退火所需的全过程时间最短,通过25℃与100℃等温退火结果的比较,可以确定此种器件的加速因子.相对于0V和浮空偏置条件,在+5V栅偏压退火情况下,阈值电压恢复速度快,恢复程度大.
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退火效应
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 CMOS器件的等时、等温退火效应
来源期刊 半导体学报 学科 工学
关键词 等温退火 等时退火 剂量率
年,卷(期) 2004,(3) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 302-306
页数 5页 分类号 TN386.1
字数 2949字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-4177.2004.03.013
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 何宝平 46 291 9.0 13.0
2 罗尹虹 54 199 8.0 10.0
3 龚建成 27 110 6.0 8.0
4 姜景和 18 78 6.0 7.0
5 王桂珍 32 156 7.0 9.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
等温退火
等时退火
剂量率
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
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期刊影响力
半导体学报(英文版)
月刊
1674-4926
11-5781/TN
大16开
北京912信箱
2-184
1980
eng
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