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活性屏离子渗氮技术的研究
活性屏离子渗氮技术的研究
作者:
赵程
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
活性屏离子渗氮
直流离子渗氮
纳米粒子簇
摘要:
在真空室内放置一个钢制网状圆筒,并与直流高压电的负极相接,在直流电场的作用下,通过气体离子对圆筒的轰击溅射,产生了一些纳米数量级的活性粒子,利用这些高活性的纳米粒子簇可以对放置在圆筒内的钢件表面进行渗氮处理.试验证明,这些活性粒子是中性的Fe4N粒子,被处理的工件既可以处于悬浮电位,也可以接地.活性屏离子渗氮可以获得和直流离子渗氮同样的处理效果,并解决了直流离子渗氮技术多年来一直存在的许多难以克服的问题.
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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名
活性屏离子渗氮技术的研究
来源期刊
金属热处理
学科
工学
关键词
活性屏离子渗氮
直流离子渗氮
纳米粒子簇
年,卷(期)
2004,(3)
所属期刊栏目
工艺研究
研究方向
页码范围
1-4
页数
4页
分类号
TG156.8
字数
3249字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.0254-6051.2004.03.001
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
赵程
青岛科技大学等离子体表面技术研究所
91
740
14.0
21.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
活性屏离子渗氮
直流离子渗氮
纳米粒子簇
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
金属热处理
主办单位:
北京机电研究所
中国机械工程学会热处理学会
中国热处理行业协会
出版周期:
月刊
ISSN:
0254-6051
CN:
11-1860/TG
开本:
大16开
出版地:
北京市海淀区学清路18号北京机电研究所内
邮发代号:
2-827
创刊时间:
1958
语种:
chi
出版文献量(篇)
10103
总下载数(次)
47
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