在聚合物表面刻写方格子的新方法及理论研究

• 作者: 张灵志 徐宇科 梁兆熙 牛永平 王福娟 蔡志岗 齐晓玲
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 薄膜物理学 偶氮苯聚合物 微结构 光异构取向场 计算机模拟
• 年，卷（期）: 2004,（11）
• 所属期刊栏目: 薄膜光学
• 页码范围: 1455-1458
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4+1|O631.2+4
• 字数: 2687字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.2004.11.004

摘要

为了提高制作偶氮苯微结构的实验技术,在偶氮苯聚合物的光致异构和光致取向特性的基础上,利用两激光束的新实验方案,运用比较简便的分步制作的方法,成功的在偶氮苯功能化聚合物薄膜表面"刻写"出二维的正方格子结构.提出了一个新的光异构取向场理论:在两束偏振方向互相垂直的偏振光照射下,偶氮苯聚合物表面光栅的形成是光异构取向场的干涉的结果,并对实验现象进行了解释.用计算机对实验结果进行了模拟,将模拟结果与实验结果进行了比较,结果表明计算机模拟将会更加有利于偶氮苯聚合物微结构的设计和制作.