纳米TiC涂层的制备技术研究

• 作者: 姜蜀宁 季锡林 胡东平 薛屺
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 物理学
• 关键词: TiC 纳米 涂层 化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 19-21
• 页数: 3页
• 分类号: O484
• 字数: 1855字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2004.02.008

摘要

TiC涂层由于具备良好的性能而广泛地应用于机械加工行业.以高温CVD方法制备TiC涂层技术为基础,研究了在反应腔中设置温度达到1600℃的高温处理装置,使原料气经过高温处理装置后在基体上沉积出TiC涂层.经金相显微镜测量厚度约为10μm,经XRD检测成分为:界面出现脱碳相Co 6W 6C,膜层除含有少量氧化物杂质外,为纯净的TiC涂层,颗粒尺寸平均为84.8nm.探索了制备纳米TiC涂层工艺的机制,其中高温处理、大温度梯度、惰性气体及冷却腔体避免引入杂质是形成纳米TiC涂层的关键因素.制备纳米级TiC涂层,可使涂层硬度、断裂韧性、表面光洁度、耐高温性能等性能指标得到提高,提高了TiC涂层产品的综合性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡东平	中国工程物理研究院结构力学研究所	15	79	6.0	8.0
2	季锡林	中国工程物理研究院结构力学研究所	6	50	5.0	6.0
3	姜蜀宁	中国工程物理研究院结构力学研究所	1	11	1.0	1.0
4	薛屺	成都市新都区西南石油学院材料学院	1	11	1.0	1.0