表面活性剂对电沉积Ni-纳米Si3N4复合镀层的影响

• 作者: 吴蒙华 夏法锋 李智 王金东 赵泉
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 文学
• 关键词: 表面活性剂 电沉积 Ni-纳米Si3N4 复合镀层
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 45-47
• 页数: 3页
• 分类号: HQ153.1
• 字数: 2612字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2004.06.017

摘要

采用电沉积法,制备Ni-纳米Si3N4复合镀层.研究了2种表面活性剂对复合镀层的粒子含量及耐磨性的影响.利用扫描电镜(SEM)观察复合镀层的表面形貌.结果表明:表面活性剂对电沉积Ni-纳米Si3N4复合镀层有较大的影响;采用非离子表面活性剂与阳离子表面活性剂的复配组合制备的复合镀层优于单独使用一种表面活性剂制备的镀层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴蒙华	大连大学机械系	83	556	13.0	18.0
2	李智	大连大学机械系	40	459	13.0	18.0
3	夏法锋	大庆石油学院机械科学与工程系	11	166	7.0	11.0
4	王金东	大庆石油学院机械科学与工程系	34	243	9.0	13.0
5	赵泉		3	16	2.0	3.0