射频磁控共溅射制备超亲水TiO2/SiO2复合薄膜

• 作者: 崔晓莉 杨锡良 沃松涛 沈杰 章壮健 蔡臻炜
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 射频磁控共溅射 SiO2/TiO2复合薄膜 亲水性 光催化
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 415-419
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3459字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2004.06.005

摘要

采用射频磁控共溅射法制备了SiO2/TiO2复合薄膜,通过控制SiO2靶与TiO2靶的溅射时间可调节SiO2与TiO2的比例.所制备的SiO2/TiO2薄膜为锐钛矿结构.实验结果表明:SiO2的掺入降低了SiO2/TiO2复合薄膜的光催化能力,但却提高了薄膜的亲水性的维持时间.其中,掺入6%～13%SiO2的SiO2/TiO2复合薄膜,在紫外光照射30 min,接触角降到2°;停止照射后,在5天内接触角小于6°.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈杰	复旦大学材料科学系	79	645	12.0	22.0
2	沃松涛	复旦大学材料科学系	11	229	8.0	11.0
3	蔡臻炜	复旦大学材料科学系	6	59	4.0	6.0
4	崔晓莉	复旦大学材料科学系	42	1222	18.0	34.0
5	杨锡良	复旦大学材料科学系	22	512	13.0	22.0
6	章壮健	复旦大学材料科学系	41	667	16.0	24.0