基体负的低偏压对氟化非晶态碳膜结构及性能的影响

• 作者: 姚志强 孙鸿 杨萍 王进 黄楠
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氟化非晶态碳膜 基体偏压 拉曼光谱 纳米压痕 疏水性
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 43-46
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2601字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2004.01.011

摘要

为了研究基体负的低偏压Vb对氟化非晶态碳膜的结构、纳米硬度和疏水性能的影响,采用等离子体浸没与离子注入装置,CF4和CH4作为气源,在不同的基体偏压下制备了一系列氟化非晶态碳膜.使用XPS、ATR-FTIR和Raman谱对其成份和结构进行了表征.薄膜硬度通过纳米压痕仪进行测量,采用躺滴法测量薄膜与双蒸水之间的接触角来评价其疏水性能.XPS和FTIR结果表明薄膜中存在C-CF、C-Fx基团.Raman谱结果表明:随着基体偏压的增加,薄膜从类聚合物状结构逐渐转变为类金刚石结构,薄膜的硬度逐渐增加.接触角测量结果表明:在低偏压范围内,单纯地依靠调节偏压并不能显著地提高薄膜的疏水性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄楠	西南交通大学材料工程学院生物材料与表面工程研究所	160	1147	19.0	27.0
2	杨萍	西南交通大学材料工程学院生物材料与表面工程研究所	16	149	7.0	12.0
3	王进	西南交通大学材料工程学院生物材料与表面工程研究所	28	254	9.0	15.0
4	孙鸿	西南交通大学材料工程学院生物材料与表面工程研究所	46	334	10.0	15.0
5	姚志强	西南交通大学材料工程学院生物材料与表面工程研究所	2	11	2.0	2.0