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摘要:
采用提拉(Czochralski)法生长了Nd:LuVO4晶体.利用液相反应法,以V2O5和NH4OH生成NH4VO3,Nd2O3、Lu2O3和HNO3生成Nd(NO3)3和Lu(NO3)3反应制备多晶料;所生长Nd0.01Lu0.99VO4晶体为16×20×21 mm3,质量超过40g.以X射线荧光分析仪测得其生长中各主要元素的分凝系数.其中Nd3+约为0.91,V3+和Lu3+接近1.还测定了其介电常数ε11=27.2,ε33=33.9(30℃,1kHz),以同步辐射X射线白光形貌术观察了其内部质量.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 Nd:LuVO4晶体的生长及其性能研究
来源期刊 人工晶体学报 学科 物理学
关键词 Nd:LuVO4 提拉法 分凝系数 介电常数 同步辐射形貌
年,卷(期) 2004,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 363-366
页数 4页 分类号 O782
字数 1852字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-985X.2004.03.020
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王继扬 山东大学晶体材料国家重点实验室 200 1444 21.0 30.0
2 胡小波 山东大学晶体材料国家重点实验室 67 321 9.0 14.0
3 徐现刚 山东大学晶体材料国家重点实验室 77 407 10.0 16.0
4 张怀金 山东大学晶体材料国家重点实验室 83 477 12.0 17.0
5 刘均海 山东大学晶体材料国家重点实验室 18 208 8.0 14.0
6 孔海宽 山东大学晶体材料国家重点实验室 2 14 2.0 2.0
7 赵守仁 山东大学晶体材料国家重点实验室 5 28 3.0 5.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
Nd:LuVO4
提拉法
分凝系数
介电常数
同步辐射形貌
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
人工晶体学报
月刊
1000-985X
11-2637/O7
16开
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
1972
chi
出版文献量(篇)
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