用电去离子方法去除高纯水中硅的研究

• 作者: 张亚峰 范伟 邓守权 闻瑞梅
• 来源期刊: 工业水处理
• 关键词: 电去离子 硅 高纯水
• 年，卷（期）: 2004,（10）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 27-29
• 页数: 3页
• 分类号: TQ085+.411
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-829X.2004.10.008

摘要

研究了电压、pH、流量等因素对EDI去除高纯水中硅的影响,探讨了EDI装置对高纯水中硅的去除机理,并对传统工艺与EDI的除硅效果进行了对比.实验结果表明:在pH、流量等因素不变的情况下,电压的增加有利于EDI对硅的脱除;在电压、流量等因素不变的情况下,EDI对硅的脱除率随着pH的增加先增加,然后有所下降;在电压、pH等因素不变的情况下,流量的增加不利于EDI对硅的脱除.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	闻瑞梅	同济大学环境科学与工程学院	24	151	8.0	11.0
2	张亚峰		10	36	4.0	5.0
3	邓守权	同济大学环境科学与工程学院	17	112	7.0	10.0
4	范伟		1	11	1.0	1.0