基于电沉积过渡层沉积CVD金刚石薄膜的研究

• 作者: 卢文壮 左敦稳 徐锋 王珉 黎向锋
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: CVD金刚石膜 电沉积 过渡层 硬质合金 结合强度
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 页码范围: 13-17
• 页数: 5页
• 分类号: TB43
• 字数: 2828字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2004.01.003

摘要

在硬质合金的Cu、Ni、Cr电沉积过渡层上采用热丝CVD法沉积出金刚石薄膜.利用SEM和Raman对金刚石薄膜进行了研究,对影响膜基结合强度的因素进行了分析,利用压痕法对金刚石薄膜与基体的结合强度进行了检验.结果表明,在Cr过渡层上沉积的金刚石薄膜的质量和膜基结合性能较好,优于在Cu、Ni过渡层上沉积的金刚石薄膜的质量和膜基结合性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卢文壮	南京航空航天大学机电学院	94	520	12.0	17.0
2	左敦稳	南京航空航天大学机电学院	510	3780	26.0	32.0
3	徐锋	南京航空航天大学机电学院	85	541	13.0	18.0
4	王珉	南京航空航天大学机电学院	205	2631	27.0	40.0
5	黎向锋	南京航空航天大学机电学院	109	810	15.0	20.0