热退火对ZnO薄膜表面形貌与椭偏特性的影响

• 作者: 傅竹西 刘磁辉 朱俊杰 林碧霞 王晓平 钟声
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧化锌薄膜材料 热退火 原子力显微镜 椭偏测量
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 151-155
• 页数: 5页
• 分类号: O472.3
• 字数: 3024字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2004.02.009

摘要

利用原子力显微镜(AFM)和椭偏仪对溅射制备的硅基Zn0薄膜的热退火表面形貌与椭偏特性进行了研究.结果发现:未退火或低温退火(≤850℃)薄膜的形貌呈现较弱的各向异性,晶粒尺寸大小较为均匀,尺寸约为50 nm.当经高温退火后,ZnO薄膜的晶粒尺寸明显增大,同时伴随晶粒尺寸分布非均匀化,较大的尺寸可达400nm,而较小的尺寸仅为50 nm.此外,椭偏测量表明:椭偏参数在不同的退火温区的变化呈现明显差别;当退火温度高于850℃时,薄膜的结构有明显的变化.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	傅竹西	中国科学技术大学物理系	53	808	17.0	27.0
2	王晓平	中国科学技术大学物理系	35	217	8.0	14.0
3	刘磁辉	中国科学技术大学物理系	13	183	6.0	13.0
4	林碧霞	中国科学技术大学物理系	32	700	16.0	26.0
5	钟声	中国科学技术大学物理系	20	117	6.0	9.0
6	朱俊杰	中国科学技术大学物理系	39	448	14.0	19.0