厚度对反铁电锆酸铅薄膜光学折射率的影响

• 作者: 刘奇能 唐新桂
• 来源期刊: 压电与声光
• 学科: 物理学
• 关键词: PbZrO3薄膜 椭偏光谱 光学特性
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 单晶、薄膜及其他功能材料
• 页码范围: 59-61，71
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2110字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-2474.2004.01.018

摘要

用化学溶液法在Pt/Ti/SiO2/Si(100)上制备了厚度分别为89 nm和137 nm的PbZrO3(PZ)薄膜.X-射线衍射结果表明晶化好的PZ薄膜是钙钛矿结构.用椭偏光谱仪在波长345～1 700 nm范围内,测量了不同厚度的PZ薄膜的椭偏光谱.获得了不同厚度薄膜的光学常数谱(折射率n和消光系数k).结果表明在633 nm处,厚度分别为89 nm和137 nm的PZ薄膜,其折射率n分别为2.090和2.236.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘奇能	湘潭大学信息与工程学院	12	54	3.0	7.0
2	唐新桂	湘潭大学信息与工程学院	1	0	0.0	0.0