磁控溅射镱薄膜的制备及压阻特性

• 作者: 周鸿仁 杜晓松 杨邦朝 滕林
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 镱薄膜 磁控溅射 压阻系数 热处理
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 472-474,480
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2172字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2004.06.020

摘要

使用直流磁控溅射的方法在聚酰亚胺上制备镱薄膜,XRD分析薄膜的晶体结构,SEM表征薄膜的形貌,利用一级轻气炮进行了1.5 GPa～2.5 GPa的冲击加载压阻测试.研究结果表明,压阻系数依赖于薄膜的晶粒尺寸,经300℃热处理1 h,镱薄膜晶粒长大,薄膜结构更为致密,膜内缺陷减少,压阻系数有明显提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜晓松	电子科技大学微电子与固体电子学院	61	434	12.0	16.0
2	杨邦朝	电子科技大学微电子与固体电子学院	253	3422	31.0	49.0
3	滕林	电子科技大学微电子与固体电子学院	16	88	5.0	9.0
4	周鸿仁	电子科技大学微电子与固体电子学院	12	60	5.0	7.0