CVD热解炭的结构、生长特征及可石墨化性

• 作者: 张传福 张福勤 熊翔 邹林华 黄伯云 黄启忠
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 热解炭 TEM 喇曼光谱 结构
• 年，卷（期）: 2004,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1118-1122
• 页数: 5页
• 分类号: TB332
• 字数: 2381字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2004.05.024

摘要

采用TEM表征结构、喇曼光谱表征石墨化度, 研究了C/C复合材料中典型粗糙层(RL)和光滑层(SL)结构热解炭生长特征及其与可石墨化性之间的对应关系.结果表明, RL为层状结构, 片层呈平直形状, 有明显的锥状生长特征, 同一锥面中石墨微晶c轴的取向基本相同, 相邻锥面中的相差一个小角度, SL没有明显的生长特征; RL比SL结构热解炭容易石墨化, 经2400℃石墨化处理后, 两者(002)衍射弧宽度分别为39℃和66℃, 对应的石墨化度分别为87.6%和25.6%.提出了一种RL结构热解炭锥状生长结构模型.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	熊翔	中南大学粉末冶金国家重点实验室	345	3793	27.0	39.0
2	黄伯云	中南大学粉末冶金国家重点实验室	607	8891	43.0	60.0
3	张福勤	中南大学粉末冶金国家重点实验室	47	564	14.0	22.0
4	张传福	中南大学粉末冶金国家重点实验室	113	1686	23.0	33.0
5	黄启忠	中南大学粉末冶金国家重点实验室	161	1430	20.0	30.0
6	邹林华	中南大学粉末冶金国家重点实验室	2	35	2.0	2.0