聚对苯(撑)二甲基膜的化学气相沉积(CVD)聚合

• 作者: 孙霞容 浦鸿汀
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 化学
• 关键词: 化学气相沉积 Parylene 聚对苯(撑)二甲基 Gorhm过程 光氧降解
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 材料综述
• 页码范围: 54-56,53
• 页数: 4页
• 分类号: O6
• 字数: 1564字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2004.03.017

摘要

采用化学气相沉积(CVD)聚合工艺制备的对苯撑二甲基聚合物可广泛应用在航天、航空、军工、电子、生物医学工程、控制系统、文物保护、纳米材料和磁性材料等诸多领域.综述了聚对苯(撑)二甲基系列膜的化学气相沉积聚合工艺和原理,介绍了底物温度和沉积舱压力等主要因素对膜沉积率的影响和膜的一些主要性能,并讨论了典型的Parylene N膜的光氧降解性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	浦鸿汀	同济大学材料科学与工程学院	75	679	14.0	22.0
2	孙霞容	同济大学材料科学与工程学院	9	39	3.0	6.0