影响半导体量子点生长因素的分析

• 作者: 俞重远 刘玉敏 杨红波 黄永箴
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 量子点 自组织生长 应力场 外界条件
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 页码范围: 1018-1021
• 页数: 4页
• 分类号: TN304
• 字数: 3557字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2004.06.031

摘要

生长高面密度和尺寸均匀的量子点是半导体量子点实用化的关键.本文在已有研究工作的基础上,从材料本身的特性和生长量子点时的外界条件两方面总结了影响量子点生长的各种因素,从原理上分析了控制量子点有序生长的可能性的几种方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄永箴	中国科学院半导体研究所集成光电子学国家重点实验室	47	229	9.0	12.0
2	刘玉敏	北京邮电大学理学院	36	223	10.0	13.0
4	俞重远	北京邮电大学理学院	49	260	10.0	12.0
6	杨红波	北京邮电大学理学院	15	106	7.0	10.0