蚀刻液水合肼还原除铜

• 作者: 万小芳 何花 汪晓军 袁笑一
• 来源期刊: 化工环保
• 学科: 地球科学
• 关键词: 蚀刻液 铜 水合肼 废水处理
• 年，卷（期）: 2004,（4）
• 所属期刊栏目: 治理技术
• 页码范围: 288-289
• 页数: 2页
• 分类号: X703
• 字数: 1478字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-1878.2004.04.014

摘要

将电路板厂废弃的蚀刻液,经氢氧化铜沉淀法回收大部分铜后,再采用水合肼还原,进一步除铜.反应温度为50℃,水合肼质量分数为3.0%,溶液pH为6.0,废液中铜的去除率可达98.5%,处理后废液中铜的质量浓度低于0.2 g/L,可作为碱性蚀刻液重复利用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汪晓军	华南理工大学造纸与环境工程学院	175	1937	25.0	35.0
2	万小芳	华南理工大学造纸与环境工程学院	55	420	10.0	17.0
3	袁笑一	华南理工大学造纸与环境工程学院	7	122	7.0	7.0
4	何花	华南理工大学造纸与环境工程学院	2	54	2.0	2.0