溶胶-凝胶法制备ZnO纳米薄膜的工艺和应用

• 作者: 刘超 孙国胜 曾一平 李建平
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO薄膜 溶胶-凝胶工艺 纳米薄膜 宽禁带半导体
• 年，卷（期）: 2004,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 123-128
• 页数: 6页
• 分类号: O472.3
• 字数: 5133字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2004.02.003

摘要

ZnO是一种重要的功能材料和新型的Ⅱ-Ⅵ族宽禁带半导体材料.采用溶胶-凝胶(Sol-gel)工艺在Si(100)、Si(111)和c面蓝宝石衬底上成功制备出高质量的ZnO纳米薄膜,并用XRD、SEM、AFM等方法研究了薄膜的特性.首次以制备的ZnO纳米薄膜为缓冲层,在n型Si(100)衬底上采用低压化学气相沉积(LPCVD)工艺外延生长了SiC薄膜,得到了低载流子浓度、高电子迁移率和高空穴迁移率的两种SiC薄膜样品,分析了该薄膜的性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李建平	中国科学院半导体研究所材料中心	251	4235	35.0	54.0
2	孙国胜	中国科学院半导体研究所材料中心	28	244	9.0	15.0
3	曾一平	中国科学院半导体研究所材料中心	85	439	11.0	16.0
4	刘超	中国科学院半导体研究所材料中心	128	874	18.0	25.0