微波等离子体化学气相沉积制备碳氮晶体薄膜

• 作者: 张阳 朱鹤孙 江锦春 沈德忠 程文娟
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: C3N4晶体 微波等离子体化学汽相沉积 薄膜
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 页码范围: 930-934,939
• 页数: 6页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2748字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2004.06.012

摘要

利用微波等离子体化学气相沉积系统,以甲烷、氮气和氢气作为气源,在Si(100)衬底上成功地制备出了碳氮晶体薄膜,并对两种衬底温度下的薄膜性质进行了比较.用高分辨率场发射扫描电子显微镜观察薄膜,可以看出晶型完整,结构致密,结晶质量较好.X射线能谱证明了碳氮是以C-N和C=N共价键的形式存在,氮碳元素的原子比均为1.3.X射线衍射确定出在衬底温度为900410℃时薄膜样品的主要晶相成份是α-C3N4,β-C3N4,赝立方C3N4,立方C3N4和一个未知相(面间距d=0.4002nm),而在950±10℃时薄膜样品的主要晶相成份是α-C3N4,β-C3N4,赝立方C3N4,类石墨C3N4和一个未知相(面间距d=0.3984nm).喇曼光谱分析也证实了薄膜中主要存在α-C3N4,β-C3N4相.