PCVD制备Ti1-xAlxN硬质薄膜的结构与硬度

• 作者: M.G.J.Veprek-Heijman S.Veprek 介万奇 徐健 徐可为 马胜利
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: (Ti Al)N硬质薄膜 微观结构 硬度 热稳定性
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 页码范围: 669-672
• 页数: 4页
• 分类号: TG113
• 字数: 2486字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0412-1961.2004.06.022

摘要

用直流等离子体增强化学气相沉积(PCVD)方法获得了Ti1-xAlxN硬质薄膜;考察了Al含量x及高温退火对薄膜微观结构转变过程及其硬度的影响.结果表明,制备的Ti1-xAlxN薄膜由3-10 nm晶粒组成.随Al含量x增加,薄膜硬度升高,x超过0.83时,硬度开始急剧下降;结构分析证实x小于0.83,Ti1-xAlxN薄膜是固溶强化;x=0.83,薄膜中出现六方氮化铝相(h-AlN).热稳定性实验表明,Ti1-xAlxN薄膜的纳米结构和硬度在N2环境下可以维持到900℃.