单晶SnO2纳米带裂纹形核的临界应力和断裂韧性

• 作者: 乔利杰 宿彦京 王中林 王玉桂 褚武扬 高克玮
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: SnO2纳米带 纳米压痕 硬度 断裂韧性 裂纹形核临界应力
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 页码范围: 594-598
• 页数: 5页
• 分类号: TG113.22
• 字数: 1834字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0412-1961.2004.06.007

摘要

使用纳米压痕法测量了单晶SnO2纳米带的硬度、断裂韧性以及裂纹形核的临界应力.结果表明,当载荷大于临界值后微裂纹就从压痕顶端形核、扩展;与此相应,在载荷-位移曲线上出现位移突变平台.根据平台载荷计算出压痕裂纹形核的临界应力σc=3.4 GPa;利用裂纹的长度计算出SnO2纳米带的断裂韧性为0.028-0.066 MPa·m1/2,其平均值为KIC=0.044 MPa·m1/2,它比其它块体脆性材料的断裂韧性小一个数量级.实验测出SnO2纳米带的硬度H=6.25 GPa和弹性模量E=86.7 GPa.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高克玮	北京科技大学材料物理系	110	613	13.0	19.0
2	乔利杰	北京科技大学材料物理系	139	834	15.0	21.0
3	褚武扬	北京科技大学材料物理系	135	889	17.0	22.0
4	宿彦京	北京科技大学材料物理系	53	346	9.0	17.0
5	王玉桂	北京科技大学材料物理系	2	12	2.0	2.0
6	王中林	北京科技大学材料物理系	1	9	1.0	1.0