衬底温度和溅射偏压对ZnO:Al透明导电膜结构和光电特性的影响

• 作者: 张鹏 杨田林 王爱芳 韩圣浩
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: ZnO:Al薄膜 衬底温度 溅射偏压 膜结构 光电性质
• 年，卷（期）: 2004,（7）
• 所属期刊栏目: 信息材料及应用
• 页码范围: 31-34
• 页数: 4页
• 分类号: TN305
• 字数: 3592字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2004.07.011

摘要

利用射频磁控溅射法在有机薄膜衬底和7059玻璃衬底上制备出了具有良好附着性的低电阻率的ZnO:Al透明导电膜.研究了薄膜的结构和光电特性与衬底温度的关系,薄膜为多晶纤锌矿结构,垂直于衬底的c轴具有[002]方向的择优取向,薄膜的最低电阻率分别为1.01×10-3Ω·cm和8.48×10-4Ω·cm,在可见光区的平均透过率分别达到了72%和85%.并研究了溅射偏压对有机衬底ZnO:Al薄膜结构及光电特性影响,最佳负偏压为60 V.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张鹏	山东大学威海分校应用物理系	108	798	13.0	21.0
2	韩圣浩	山东大学威海分校应用物理系	28	181	8.0	12.0
3	杨田林	山东大学威海分校应用物理系	16	117	5.0	10.0
4	王爱芳	山东大学威海分校应用物理系	12	57	5.0	7.0