4万t/a 32NCH离子膜装置技改情况

• 作者: 杨国安 沈曙光
• 来源期刊: 中国氯碱
• 学科: 工学
• 关键词: 高电流密度电解槽 结构及工艺 性能考核
• 年，卷（期）: 2004,（6）
• 所属期刊栏目: 离子膜
• 页码范围: 3-4
• 页数: 2页
• 分类号: TQ114
• 字数: 1472字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-1785.2004.06.002

摘要

简要介绍了旭化成高电流密度电解槽的结构和工艺特点,通过考核及运行表明该型槽在技术上有较明显的提升,可在高电流密度条件下运行.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈曙光		3	8	2.0	2.0
2	杨国安		1	3	1.0	1.0