扫描成像系统的激光干扰效果分析

• 作者: 曹卫公 沈严 胡永钊 赵铭军 郑永超
• 来源期刊: 电子科技大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 光电对抗 自适应干扰 干扰效果 干扰机理
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 学术论文与技术报告
• 页码范围: 39-42
• 页数: 4页
• 分类号: TN977
• 字数: 2488字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-0548.2004.01.011

摘要

从破坏机理和损伤阈值方面分析了光电探测器的干扰机理.给出了激光干扰概率模型,提出自适应干扰和时域均匀干扰两种干扰模式,对两种不同干扰方式下扫描成像设备的干扰概率进行了理论计算并得出了试验结果,验证了侦察-干扰工作模式的有效性,证明了激光自适应干扰是光电对抗中的首选干扰方式.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑永超		5	105	4.0	5.0
2	胡永钊		3	23	3.0	3.0
3	赵铭军	西安电子科技大学技术物理学院	5	50	4.0	5.0
4	沈严		4	92	3.0	4.0
5	曹卫公		2	19	2.0	2.0