光刻系统用氟化钙晶体的研究进展

• 作者: 周国清 徐军 杨卫桥 苏良碧 董永军
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氟化钙 晶体 紫外 光刻 157nm 半导体
• 年，卷（期）: 2004,（3）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 449-455
• 页数: 7页
• 分类号: O782
• 字数: 4754字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2004.03.001

摘要

解释了氟化钙晶体能被应用在光刻系统和掀起研究热潮的原因,概述了氟化钙晶体的研究和发展现状,指出了目前氟化钙晶体在研究和发展过程中要解决的重要问题和措施,最后对氟化钙晶体在光刻系统中的发展前景作了展望.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	苏良碧	中国科学院上海光学精密机械研究所	46	258	9.0	14.0
2	徐军	中国科学院上海光学精密机械研究所	290	2418	22.0	34.0
3	董永军	中国科学院上海光学精密机械研究所	21	226	10.0	14.0
4	周国清	中国科学院上海光学精密机械研究所	48	336	11.0	15.0
5	杨卫桥	中国科学院上海光学精密机械研究所	19	138	6.0	11.0