脉冲激光沉积羟基磷灰石薄膜的研究现状

• 作者: 包全合 姚书山 张亮 陈传忠 雷廷权
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 脉冲激光沉积 羟基磷灰石 薄膜 影响因素 研究现状
• 年，卷（期）: 2004,（1）
• 所属期刊栏目: 综述、评述
• 页码范围: 74-77
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 4087字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3806.2004.01.004

摘要

羟基磷灰石(HA)具有优良的生物相容性,被用作植入体涂层材料广泛应用于整形外科、神经外科和牙科方面,利用脉冲激光沉积(PLD)技术制备的HA薄膜具有高的结晶度和结合强度,受到人们的关注.综述了PLD技术制备HA薄膜的研究现状,系统地阐述了沉积过程中工艺参数对薄膜性质的影响,包括靶材的性质、气氛、衬底温度、激光波长和能量密度、缓冲膜等,分析了薄膜的力学特性和生物活性,展望了该项技术的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈传忠	山东大学材料科学与工程学院	31	731	13.0	27.0
2	雷廷权	山东大学材料科学与工程学院	117	2690	31.0	46.0
6	包全合	山东大学材料科学与工程学院	5	268	4.0	5.0
7	姚书山	山东大学材料科学与工程学院	5	226	3.0	5.0
8	张亮	山东大学材料科学与工程学院	19	113	5.0	10.0